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Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A單晶材料深紫外光學(xué)傳輸材料
發(fā)布時(shí)間： 2026-04-24 點(diǎn)擊次數(shù)： 91次Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A單晶材料深紫外光學(xué)傳輸材料
在深紫外光學(xué)、精密激光系統(tǒng)、半導(dǎo)體光刻、航天遙感等技術(shù)領(lǐng)域，光學(xué)材料的透過率、晶體完整性、光學(xué)均勻性、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性直接決定光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量、傳輸效率與工作壽命。氟化鈣（CaF?）作為具備優(yōu)異深紫外透過特性、低折射率、低色散、高熱穩(wěn)定性的堿土金屬鹵化物單晶材料，已成為193nm ArF準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)的核心光學(xué)元件基材。Hellma作為全球頂尖的光學(xué)材料與精密光學(xué)元件制造商，其推出的CaF? LD-A單晶材料憑借<111>晶向、193nm波段優(yōu)化、高純度、低缺陷、高穩(wěn)定性等特性，成為深紫外光學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的級產(chǎn)品。本文基于CaF?圓形光學(xué)元件技術(shù)參數(shù)，從材料特性、結(jié)構(gòu)優(yōu)勢、加工精度、性能指標(biāo)等維度，全面解析Hellma氟化鈣LD-A型號(hào)的核心技術(shù)優(yōu)勢，并結(jié)合行業(yè)實(shí)際應(yīng)用場景，闡述其在光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用價(jià)值與實(shí)踐案例，為深紫外光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、元件選型與系統(tǒng)集成提供專業(yè)技術(shù)參考。
Hellma氟化鈣LD-A型號(hào)基礎(chǔ)技術(shù)參數(shù)與材料特征
本次解析的Hellma CaF? LD-A單晶元件為標(biāo)準(zhǔn)圓形光學(xué)片，產(chǎn)品基于193nm深紫外波段優(yōu)化設(shè)計(jì)，采用單晶結(jié)構(gòu)與<111>晶體取向，整體加工精度與表面質(zhì)量滿足高精度光學(xué)系統(tǒng)使用要求，其核心技術(shù)參數(shù)如下：
材料類型為CaF? 193nm專用級，牌號(hào)LD-A，結(jié)構(gòu)為單晶（monokristallin），晶體取向<111>；元件外形為圓形平片，直徑100.0mm，厚度30.0mm；尺寸公差直徑±0.5mm，厚度±0.5mm；表面質(zhì)量為研磨級，表面粗糙度Rq 2µm；邊緣保護(hù)倒角尺寸1.5mm。
從材料基礎(chǔ)屬性來看，該產(chǎn)品并非普通多晶或工業(yè)級氟化鈣，而是專為深紫外光學(xué)系統(tǒng)開發(fā)的高純單晶材料。LD-A等級代表材料經(jīng)過嚴(yán)格的缺陷控制、雜質(zhì)去除與光學(xué)均勻性優(yōu)化，可在193nm紫外波段保持高透過率與低吸收損耗；<111>晶體取向?yàn)榉}材料在紫外激光應(yīng)用中的優(yōu)取向之一，可有效降低激光誘導(dǎo)損傷、提升應(yīng)力均勻性、減少雙折射效應(yīng)；圓形大尺寸規(guī)格（100mm×30mm）可滿足大型光刻鏡頭、激光傳輸窗口、深紫外檢測系統(tǒng)的使用需求，是光學(xué)系統(tǒng)的核心基礎(chǔ)元件漢達(dá)森yyds吳亞男。
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